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      PVD離子鍍膜與真空蒸發鍍膜比較存在的優點

      PVD離子鍍膜與真空蒸發鍍膜比較存在的優點

      作者:五金沖壓編輯????來源:本站原創????發布時間:2018-03-26T20:49:27????瀏覽量:
      離子鍍膜(PVD 鍍膜)技術其具體的原理主要是指,在真空的環境下,運用大電流、低電壓的電弧放電技術,通過合理運用氣體放電,即可促使靶材迅速蒸發,蒸發氣體與物質均能夠被迅速電離,再通過對電場的加速,從而促使各種反應產物和蒸發物質能夠大量聚集在工件之上。PVD 離子鍍膜因其所具備的各項特點,其與真空蒸發鍍膜比較,存在以下優點:
      (1)離子具有較好的繞射性能,可對各種復雜的鍍形狀工件進行處理;
      (2)工件與膜層表面具有較強的結合力,故具有更高的耐磨性和持久性;
      (3)其所能夠鍍膜的種類非常繁多;
      (4)膜層具有較快的沉積速率,并且有著較高的生產效率;
      (5)具有較為穩定的膜層性能,其安全性也非常高?! ?br /> PVD 技術更多的適用于成型、沖壓、拉伸等模具,車刀、鉆頭等刀具以及精密零配件等。在對模具進行涂層技術的處理之后,可促使抗磨力、硬度得到有效提升,同時還可促使摩擦系數降低,從而促使工件的使用壽命得以延長,通常情況下,與未處理過的工件比較,其壽命能夠增加 3-10 倍。截至目前為止,較常見的涂層主要包括:TiCN、CiN等,各種涂層處理技術,其所具備的用途和特性有明顯差異。

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